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金屬等離子（zǐ）清洗機（jī），金屬等離子（zǐ）表麵處理
等離子清洗機利用等離子體中（zhōng）高能粒子和活性粒子，通過轟擊（jī）或活化反應作（zuò）用達到將金（jīn）屬表麵汙物去除的目（mù）的。等離子體清洗的過程中不使用化學試劑，所以不會造成二次汙染，清洗設備（bèi）可（kě）重複性強，所以設備的運行成本比（bǐ）較低，而且操作靈（líng）活簡單，可以實現對金屬表麵的整（zhěng）體或某（mǒu）些局部及複（fù）雜結構的清（qīng）洗（xǐ）；有些經過等離（lí）子體（tǐ）清洗（xǐ）後的表麵性能還可以得到改善，有助於金屬的後續加工應用。等離子體清洗的機理
等離子體中處理存（cún）在著大量的氣體分子、電子和離子外，還存在大量受激發的中性原子、原子團自由基及等離子體（tǐ）射出的光線。等離子體清洗（xǐ）是（shì）利用離子、電（diàn）子、受激原子、自由基及其（qí）射出的光線與被清洗表麵的（de）汙染（rǎn）物分子分別發生活化反應而最（zuì）終將汙染物清除的過程。電子在（zài）金屬表麵清洗過程中的作用
在等離子體中，電子與原（yuán）子或分子之間的碰撞，可以產生激發態中性原子或原子團（又稱自由基），這些激發態原子或自由基與汙（wū）染物分子（zǐ）發生活化（huà）反（fǎn）應而使汙染物脫離金屬表麵（miàn）。當電（diàn）子（zǐ）輸運到表麵清洗（xǐ）區域（yù）時，與清洗表麵吸（xī）附的汙染物分子發生碰撞，會促使汙染物（wù）分（fèn）子發生分解而產生活性自（zì）由基，這會有利於引發汙染物分（fèn）子的進一步活化反應；而（ér）且，質量很小的電子比離子運動要快得多，因（yīn）此電子要比離子更早到達物體表（biǎo）麵，並使表麵帶有負電荷，從而有利（lì）於引發進一步活化反應。離子在金屬（shǔ）表麵清洗過程中的作（zuò）用
一（yī）方麵是陽離子被附有負（fù）電荷的物體表麵所加速獲得很大的動能（néng），發生純物理碰撞，可以使得附（fù）著在物體表麵的汙物被剝離；另一方麵，陽離子的（de）撞擊作用還可以增加物體表麵汙染物分子發生活化反應（yīng）的幾率。自由基（jī）在金屬表（biǎo）麵清洗過程中的作用
一般情況下，等離子（zǐ）體中自由基的（de）存在（zài）數量比離（lí）子多，呈現電中性，壽命比（bǐ）較長，且具有大的能量比較高。在清洗過程中（zhōng），表（biǎo）麵的汙染物分子很容易與高能的自由基相結合而產生（shēng）新的自由基，這些新的自由基（jī）也居於高能狀態，極不穩定，很容（róng）易自身（shēn）分解（jiě）而轉變為較（jiào）小的分子，同時生成新的自由基，這種（zhǒng）過程將持續不斷（duàn）的進行下去，直至被分解成（chéng）穩定的易揮發的簡單小分子，最終使（shǐ）汙染物脫離（lí）金屬（shǔ）表麵，在此過程中，自由基的主要作用表現（xiàn）在活化作（zuò）用過程中的能量傳遞，在自（zì）由基與表麵（miàn）汙物分子相結（jié）合的過程（chéng）中，會有大（dà）量的結（jié）合能釋放（fàng）出來，被釋放出的能量作為推進表麵汙物分子發生新的（de）活化反應的動力，有利於汙染物在等離子體的活化作（zuò）用下更徹底地被清除掉。發射（shè）光線在金屬表（biǎo）麵清洗過程（chéng）中（zhōng）的作用
等（děng）離子體產生的同時會發射（shè）出光線，它具有很高的能量且穿透力很強，金屬表麵汙物分子在光（guāng）線的作用下，分子鍵斷裂而被分解，從（cóng）而有利於推動黏附（fù）在金屬表麵上的汙染物分子發生進一步（bù）的活化反應。綜上所（suǒ）述（shù），等離子清洗機主要是憑借等離子體中的電子、離子、激發態原子及自由基（jī）等活性離子的活化作用，將金屬（shǔ）表麵有機（jī）汙染（rǎn）物（wù）的大分子一步（bù）步分解而（ér）最終產生穩定的易揮發的簡單小分子，終將黏著在表麵的汙物徹底脫離清除。同時，經過等離子體清（qīng）洗後的金屬表（biǎo）麵附著性能和表麵潤濕（shī）性可以極大（dà）程度的被（bèi）改善，而這些性能的改善對金屬材料的進一（yī）步表麵處理也是非常（cháng）有利的。隨著高科（kē）技產業的快速發展，等（děng）離子體清洗的應用越來越廣，目前已廣泛應用在電子工業、半導體行業和光電行業等高科技領域。
