等離子清（qīng）洗原理

什麽是等離子體（tǐ）？

等（děng）離子體是物質的一種存在狀態，通常物質以固態、液態、氣態（tài）三種狀態存在，但在一些特殊情（qíng）況下可以以第四種狀態存在，如太陽表麵的物質和地球大氣中（zhōng）電離層中的物質。這類物質所處的狀態稱為等離子體態，又稱為（wéi）物質的第四態。等離（lí）子體主要是通過氣體放電產生,其中包含電（diàn）子、離子、自（zì）由基以及（jí）紫外線等高能量物質,具有活化材料表麵的作用。例如,電子質（zhì）量小、移動速度快,可以（yǐ）先一（yī）步到達材料表麵並使（shǐ）其帶（dài）有負電荷,同時對材料表麵產（chǎn）生撞擊作用,可促使表麵吸附的氣體分子（zǐ）解吸或分解,也有利於引發化學反應;材料表麵（miàn）帶有負電荷時,帶正電荷的離子會加速向其衝擊,所產生的濺射作用會將表麵附著的顆粒性（xìng）物質除去;等（děng）離子體中（zhōng）自由基的存在對清洗作用具有（yǒu）非（fēi）常重（chóng）要（yào）的意義,由於自由基易與物體表麵發生化學連鎖反（fǎn）應,產生新的自由基（jī）或進（jìn）一步分解,最後可能會分解成揮發性的小分子;而紫外線具有很強的光能和穿透能力,可透過材料表麵深達數微米而產生作用,使表麵附著物質的分（fèn）子鍵斷裂分（fèn）解。

等（děng）離子清洗原理：

主要是（shì）依靠等（děng）離子體中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表麵汙漬的目的。就反應機理來看，等（děng）離子體清洗通常包（bāo）括（kuò）以（yǐ）下過程：無機氣體（tǐ）被激（jī）發為等離子態；氣相（xiàng）物（wù）質被吸附在固體表麵；被（bèi）吸附基團與固體表麵分子反應生成產物分（fèn）子（zǐ）；產物分子（zǐ）解析形成氣相；反應（yīng）殘餘（yú）物脫離表（biǎo）麵（miàn）。

等離子體作用於材料表麵使其產生一係列的物理、化學變化,利用其中所包含的活性粒子和高能射線,與（yǔ）表麵有機汙染物分子發生反（fǎn）應、碰撞形（xíng）成（chéng）小分子（zǐ）揮發（fā）性物質,從表麵移除（chú）,實現清潔效果。

1）對材（cái）料表麵的刻蝕作用–物理作（zuò）用

等離子體中的大量離子、激（jī）發態（tài）分（fèn）子、自由基等多種活（huó）性粒子，作用到固體樣品表麵，不但清（qīng）除（chú）了表（biǎo）麵原有的汙染物和雜質，而且會產生刻蝕作用，將樣品表麵變粗糙，形（xíng）成許多微細坑窪，增大了樣（yàng）品的比（bǐ）表麵。提高固體表麵的潤濕性能（néng）。

2）激活鍵能，交（jiāo）聯作用

等離子（zǐ）體中的粒子能（néng）量在0~20eV，而聚合物中大部分的鍵能在0~10eV，因此（cǐ）等離子（zǐ）體作用到固體表麵後（hòu），可以（yǐ）將固體表（biǎo）麵的原有的（de）化（huà）學鍵產生斷裂（liè），等離子體中的自由基與這些（xiē）鍵形成網狀的交聯結構，大大地（dì）激活了表麵（miàn）活性。

3）形成新的官（guān）能團（tuán）–化學作用

如果放電氣體中引入反（fǎn）應性氣體，那麽在活化的（de）材料表麵會發生複雜的化學反（fǎn）應，引入新的官能團，如烴基、氨基、羧基等，這些官能團都是活性基團，能明（míng）顯提高材料表麵活性（xìng）。

以上就是等離子清洗原理，等離子體清洗技術的最大特點（diǎn）是不分處理對象的基材（cái）類型，均可進行處理（lǐ），對金屬、半導體、氧化物和大多（duō）數高分子材料，如（rú）聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環（huán）氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地（dì）處理，並可實現整體和局部以及複雜結構的清洗。 等（děng）離子（zǐ）體清洗（xǐ）還具有以（yǐ）下幾個特點：容易采用數控技術，自（zì）動化程度高；具有高（gāo）精度的控製（zhì）裝置，時間控製的精（jīng）度很（hěn）高；正確的等離子體清洗不會在（zài）表麵產生損傷層（céng），表麵質量得到保證；由於是在真（zhēn）空中進行，不汙染環境，保證清洗表麵不被二次汙染。