等離子（zǐ）清洗原（yuán）理

什麽是等離子體？

等離子體是物質的一種（zhǒng）存在（zài）狀態，通常物質（zhì）以固態（tài）、液態、氣態三（sān）種狀態存在，但在一些特（tè）殊情況下可以以第四種狀態存在，如太陽表麵的物質（zhì）和地球大氣中電離層中的（de）物質。這類物質所處的狀態稱為等離子體（tǐ）態，又稱為物質的第四態。等離子體主要是通（tōng）過氣體放電產生,其中包含電子（zǐ）、離子、自由基以及紫外線等高能量物質,具有活化（huà）材料表麵的作用（yòng）。例如,電子質量小、移動速度快,可以先一步到達材料表麵並使其帶有（yǒu）負（fù）電荷（hé）,同時對（duì）材料表麵產生（shēng）撞擊（jī）作用,可促使表麵吸附的氣體分（fèn）子解吸或（huò）分（fèn）解,也有利於引發化學反應;材料表麵帶有負（fù）電荷時,帶（dài）正電荷的離子會加速（sù）向其（qí）衝擊,所產生的濺射作用會（huì）將表麵附著的（de）顆粒性（xìng）物質除去（qù）;等離子體中自由基的存（cún）在對清洗作用具有非常重要的意義（yì）,由於自由（yóu）基易與物體表麵發生化（huà）學連鎖反應,產生新的自由基或進一（yī）步分解,最後可能會分解成揮發性的小分子;而紫外（wài）線具有（yǒu）很強的光能和穿透能力,可透過材（cái）料表麵深達數微（wēi）米而產生作用,使表麵附著物質的分子鍵斷裂分解。

等離子（zǐ）清洗原（yuán）理：

主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表麵汙漬的目的。就反應機理來看，等離子體清洗通常包括以下過（guò）程（chéng）：無機氣體被激（jī）發為等離子態；氣相物質被吸附在固（gù）體表麵；被吸附基團與固體表麵分子反應生成產物分子；產物分子解（jiě）析形成氣相；反（fǎn）應殘餘物脫離表麵。

等離子體作用於（yú）材料（liào）表麵使（shǐ）其產生一係列的物理、化學（xué）變化,利用其中所包含的活性粒子和高能（néng）射線,與表麵有（yǒu）機汙染物分子發生反應、碰撞形成小分子揮發性（xìng）物質,從表麵移除,實現清潔效果。

1）對材料表麵的刻蝕作用–物理作用

等離子體中的大量離子、激發態分子、自由基等多種活性粒子，作用到固體樣品表麵，不但清除了表麵原有的汙（wū）染物和雜質，而且會（huì）產生刻蝕作用，將樣品表麵變粗糙，形成許多微細（xì）坑窪（wā），增大了樣品的比表麵。提高固體表麵（miàn）的潤濕性能。

2）激（jī）活鍵能，交聯作用

等離子（zǐ）體中的（de）粒子能量在0~20eV，而聚（jù）合物中大部（bù）分的鍵能在（zài）0~10eV，因此等（děng）離子體作用到固體表麵後，可以將固（gù）體（tǐ）表麵的原有的（de）化學鍵產生斷裂，等離子體中（zhōng）的自由（yóu）基與這些鍵形成網狀的交聯（lián）結構，大（dà）大地激活了表麵活性。

3）形成新的官能團–化學作用

如果放電氣體中引（yǐn）入反應性氣體，那（nà）麽在活化的材料表麵（miàn）會發生複雜的化學反應，引入新的官能（néng）團，如烴基、氨基、羧基等，這些官能團都（dōu）是活性基團，能明顯提高材料表麵活性。

以上就是等離子清洗原理，等（děng）離（lí）子體清洗技術的最大特點是不分處（chù）理對（duì）象的基材類型，均可進行處理，對金屬（shǔ）、半導體、氧化物和大多數高分（fèn）子材料，如聚丙烯、聚脂、聚（jù）酰亞胺、聚氯乙烷、環氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理，並可實（shí）現整體和局部以及複雜結構的（de）清洗。 等離子體清洗還具有以下幾個（gè）特點：容易采用數控技術（shù），自動化程度高；具有高精度的控製裝置，時間（jiān）控製的精度很高；正確的等離（lí）子體清洗不會在表麵產生損傷層，表麵質量得到保證；由於是在真空（kōng）中進行，不汙染環境，保證（zhèng）清洗表麵不被二（èr）次汙染。