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等離子清（qīng）洗與激光清洗有什麽區別（bié）與聯係
激光清洗的原理：
激光清洗是利用激光光束具有大的能量密度、方向可控和（hé）匯聚（jù）能力強等特性, 使汙染物與基體之間（jiān）的結合力受到破壞或者使汙（wū）染物直接氣化等方式進行脫汙, 降低汙染（rǎn）物與基體的結（jié）合強度, 進而達到清洗工件（jiàn）表麵的作用。激光清洗原理圖如圖1所示。當工件（jiàn）表麵汙（wū）染物吸收激光的能量後, 其快（kuài）速氣化或瞬間受熱膨脹後克服汙染物與基體表麵之間的作用力, 由於受熱能量升高, 汙染物粒子進行振動後而從基體表麵脫落。
圖1 激光清洗原理圖（tú）
整（zhěng）個激光清洗過程大致分為4個階段, 即激光氣化（huà）分解（jiě）、激光剝離、汙染物粒子熱膨（péng）脹、基體表麵（miàn）振動和汙染物（wù）脫離。當然, 在應用激（jī）光清洗技術時還要注意被清洗對象的激光清洗閾（yù）值, 選擇合適的激光波長（zhǎng）, 進而達到最佳的清洗效果。激光清洗能夠在不損傷基體表麵的前提下, 使基材表麵的晶（jīng）粒結構和取向改變, 並（bìng）且還能夠對基體表麵粗糙度進行控製（zhì）, 從而增（zēng）強基體表麵的綜合性（xìng）。清洗效果主要受光束特性、基底與汙物材料的物性參數和汙物對光束能（néng）量的吸收能力等因素影響。
等離子清洗原（yuán）理：
等離（lí）子體和固體、液體或氣體一樣，是物質的（de）一種狀態，也叫做物質的第四態。對氣體施加足夠的能量（liàng）使之（zhī）離化便成為等離子狀態。等離子體的"活性"組分（fèn）包括：離子、電子、活性基團、激發態的核素（亞穩態）、光子等。等離子清洗就是通過利用這些活性組分的性質來處理樣品表麵，從而實現清潔、改性、光刻膠灰化等目的 。
等離子清洗原理圖
等離子（zǐ）體處理過程中,包括化學反應與物（wù）理反（fǎn）應兩種（zhǒng）清洗過程。
化學過程：在（zài）化學等離子體過程中,自（zì）由激進分子與待（dài）清洗 物表麵的元素發生化學反應（yīng）。這些反應後的產物是 非常（cháng）小、易揮發的分子,它們可以用真（zhēn）空泵抽（chōu）出（chū）。在有機物清洗應用中（zhōng）,一般主要的副產物包括（kuò）水、一氧 化碳和（hé）二氧化碳。以化學反應為主的等離子體清洗,清洗速度快、 選擇性好、對去除（chú）有機汙染物最為有效。缺點是會在 表麵產生氧化。典型的化學等離子體清洗是采（cǎi）用氧 氣（qì）等離子體。
物（wù）理（lǐ）過程：物理過程中,原子和離子以高能量、高速度轟（hōng）擊 待清洗物（wù）表麵,使分子分解,通過（guò）真空泵（bèng）抽出。
等離子清洗與激光清洗有什麽區別（bié）：
通過上述兩種清洗方（fāng）式的原理7799天天看影视不難（nán）看出:激光清洗技術是指采用高能激光束照射工件表麵,使表麵的汙（wū）物、鏽斑或塗層發生（shēng）瞬間蒸發或剝離,從而達到潔（jié）淨化的工藝過程。等（děng）離子清洗是利用等離子體中的（de）活性物質與產（chǎn）品（pǐn）表麵發生物理或化學的反應從而達到清（qīng）洗（xǐ）的目的。等離子清洗實際上清洗的效果隻是涉及產品的（de）微觀表麵，清洗程（chéng）度沒有激光清洗那麽強。等離子清洗更多的應用（yòng）在材料的（de）表（biǎo）麵改性上。
等離子清洗與激光清洗有什麽聯係：
首先（xiān）7799天天看影视先來看一段關於激光清洗的描述“等離子體隻在能量密度高於閾值的情（qíng）況下（xià）產生，這個閾值（zhí）取（qǔ）決於被（bèi）去除的汙染層或氧化層。這個閾值效（xiào）應對在保證基（jī）底材料安（ān）全的情況下進行有效清潔非（fēi）常重要。等離子體的出現還存在第二個閾值。如果（guǒ）能量密度超過這一閾值，則基底材料將被破壞。為在保證基底材（cái）料安全的前提下進行有效的清潔，必須根據情（qíng）況調整激光參數，使光脈衝的能量密度嚴格處於兩個閾值之間。”也就是說在激光清洗的過程中會（huì）伴隨等離子清洗的產生。
