等離子體清洗機

等離子體清洗采用（yòng）氣體作為清洗介質, 不存在使用液體清洗介質對（duì）被清洗物（wù）帶（dài）來的二次（cì）汙染。等離子體清洗機工作時真空清洗腔（qiāng）中的等離子體輕柔衝（chōng）刷被清洗物的表麵, 短時間的（de）清洗就可以使汙染物（wù）被徹底地（dì）清洗掉, 同時汙染物被真（zhēn）空泵抽走（zǒu）, 其清洗程度可達到（dào）分子級。

等離（lí）子體是由Sir William Crookes在（zài）1879年發現的。而等離子體清洗機應用於工業, 源於20世紀初（chū）。並且隨著等離子體物理研究的（de）深入, 其應用越（yuè）來越廣, 目前已（yǐ）在眾多高（gāo）科（kē）技領域中, 居於關（guān）鍵技術的地（dì）位。等離子清（qīng）洗技術對產業經濟和人類文（wén）明（míng）影響最大的, 首推電（diàn）子資訊工業, 尤其是（shì）半導體業與光電（diàn）工業。

目前已（yǐ）廣泛應用的物理化學清洗方法, 大致可分為兩類:濕法清洗和幹法清洗。幹法清洗（xǐ）中發展較快、優勢明顯的是等離子體清洗, 等離子體（tǐ）清洗已逐步在半導體製造、微電子封裝、精密機械等行（háng）業開始普遍應用。濕法（fǎ）清洗要大量使用酸堿等化學物質, 而且清洗後產生大量（liàng）的廢氣、廢液。當然濕法清（qīng）洗目前在（zài）清洗工藝中還（hái）占據主導地位。但是（shì）從對環境的影響、原材料的消耗來看, 幹法清洗要明顯優於濕法清洗, 更應是未來清洗方法的發展方向。

我司從事等離子體清洗行業已經二十年，是國內最早一批從事真空及大氣低溫（wēn）等離子體（電漿）技術、射頻及微波等離子體（tǐ）技術研發、生產、銷售於一體的國家高新技術企業，隸屬於東信（xìn）高（gāo）科等離（lí）子科技（香港）控股有限公（gōng）司（sī），總部設於香港 。公司（sī）目前生產的（de）等（děng）離子清洗設備有，大氣等離子體清洗機，真空等離子體清洗（xǐ）機，線性輝光等（děng）離子體清洗（xǐ）機，FPC/PCB 等離子刻蝕機。產品廣泛應用於微（wēi）波印製電路、FPC、觸（chù）摸屏、LED、wire$DieBonding、醫療行業（yè）、培養皿處理（lǐ）、材料表麵改（gǎi）性及活化（huà）等領域。歡迎廣大新老客戶（hù）致電谘詢（xún）。